特許情報(Bセクション)

(2023年8月現在)

特許/公開番号 発明の名称 発明者
特許第4714873号 光触媒用助触媒および光触媒材料 堂免一成,前田和彦
特許第4806770号 固体酸触媒 堂免一成,原亨,高垣敦
特許第4892743号 微細流路を用いた微小液滴の製造装置 鳥居徹,西迫貴志
特許第4934806号 モーションキャプチャを用いたリンク機構モデルのリンク長パラメータの推定法及び装置 中村仁彦,山根克,福田大輔
特許第5830253号 液体ゲル化装置及び液体ゲル化方法 竹内昌治,尾上弘晃,瀧ノ上正浩,前田一輝,稲森貴一
特許第6021110号 感圧型センサ 下山勲,松本潔,グェンビンキェム,グェンミンジューン,ファンホアンフォン
特許第6099081号 電解液ジェット加工装置及び電解液ジェット加工方法 国枝正典
特許第6425466号 飛行装置 稲葉雅幸,岡田慧,趙漠居,川崎宏治
特許第6615499号 細胞またはリポソーム粒子の分離捕捉装置 竹内昌治,大崎寿久,手島哲彦,豊田太郎,風山祐輝
特許第6710410号 無機結晶 加藤隆史,西村達也,中山真成,梶山智司
特許第6792850号 光刺激により形態制御可能な高分子材料 豊田太郎,本多智
特許第6816878号 移動装置 福井類,佐野勝哉
特許第6844873号 マイクロリアクタチップおよびその製造方法 曽我直樹,野地博行,渡邉力也
特許第6887870号 旋回装置 福井類,佐野勝哉,満留慶介
特許第6903311号 サスペンション装置 後藤健太郎
特許第6969774号 複合加工装置 国枝正典,韓偉
特許第7023500号 レーザ加工システム 小林洋平,谷峻太郎,青柳弓槻
特許第7088571号 単層カーボンナノチューブ及び該単層カーボンナノチューブに積層された層を有する構造体、及びその製造方法 丸山茂夫,井ノ上泰輝,項栄
特許第7248271号 情報処理装置、ロボットハンド制御システム、及びロボットハンド制御プログラム 舘暲,井上康之,加藤史洋
特許第7281064号 光照射装置、イメージング装置、及びレーザー加工装置 中野義昭,種村拓夫,福井太一郎,山下大之,田之村亮汰
特許第7299597号 レーザ加工におけるレーザ光強度への依存性の判定方法及びレーザ加工装置 小西邦昭,湯本潤司,櫻井治之,田丸博晴
特許第7329229号 温度応答性色材 石井和之,石田虎太郎
特開2021-115632 金属製中空マイクロニードルの製造方法、および金属製中空マイクロニードル 古島剛
特開2021-133491 ガラス研磨加工方法およびガラス研磨加工装置 三村秀和,松澤雄介,郭建麗
特開2021-137697 環状化合物の分離または精製方法、環状化合物の製造方法、分離材、および分離器具 細野暢彦,植村卓史
特開2021-187352 速度軌道導出方法とそのプログラムおよび情報処理装置 藤本博志,服部充浩
特開2021-194633 スメクチック液晶構造を有する複合半透膜 加藤隆史,片山浩之,濱口和馬,鳥居将太郎
特開2022-044012 金属ナノクラスター 鈴木康介,水野哲孝,山口和也,米里健太郎,津本浩平,中木戸誠
特開2022-050363 量子ドット、量子ドットの製造方法、及び量子ドットの使用 中村栄一,RuiShang,ChevalierOlivier
特開2022-077819 光反応性液晶化合物及び液晶薄膜 加藤隆史,片山浩之,MonikaGUPTA
特開2022-105478 構造物の設計支援装置、処理対象物の処理支援装置、設計支援方法および設計支援プログラム 山田崇恭
特開2022-115640 情報処理装置及びプログラム 國吉康夫,大村吉幸,金希哲
特開2022-130321 ホスト分子の包接能の変更方法、包接体の製造方法、包接体、単結晶、複合体、及び標的分子捕捉用キット 藤田誠,竹澤浩気
特開2022-165504 レーザ加工機 割澤伸一,福井類,石黒瑞樹,三吉弘信,成田真庸,北澤匡哉
特開2023-004241 多分子膜、多分子膜の製造方法及び積層体 中村栄一,関根良輔,内田光, PrinceRavat,原野幸治,亀井恒
特開2023-035596 揮発性有機化合物回収剤および揮発性有機化合物回収方法 石井和之,村田慧,横森慶,榎本恭子,中村誠司
特開2023-042207 NO吸着材の製造方法、NO吸着材、ならびにこれを備える排ガス浄化装置 小倉賢
特開2023-046803 ロボットシステム 原田香奈子,マルケスマリニョムリロ
特開2023-103982 高分子ゲル含有材料、およびこれを備える電気化学デバイス 周泓遥,山田鉄兵,松野稜平
WO2020-031948 レーザ加工システムに用いられる機械学習方法、シミュレーション装置、レーザ加工システム並びにプログラム 小林洋平,谷峻太郎
WO2020-040129 ナノ構造複合半透膜 加藤隆史,DanielKuo,片山浩之, LiuMiaomiao
WO2020-100752 消臭用エアロゲル材料及びその製造方法 坂田一郎,古月文志, アダヴァンキリヤンキルビピン,植木貴之
WO2020-110980 電気加工方法及び電気加工装置 国枝正典,中村倖
WO2020-138267 レーザ加工におけるレーザ光強度への依存性の判定方法及びレーザ加工装置 小西邦昭,湯本潤司,櫻井治之,田丸博晴
WO2020-235541 画像インタフェース装置、画像操作装置、操作対象物操作装置、操作対象物操作システム、操作対象物提示方法および操作対象物提示プログラム 檜山敦,稲見昌彦,佐々木智也,泉原厚史,荻野将拓,岡本直樹
WO2021-060303 マイクロ粒子 伊藤大知,太田誠一,傅暁廷
WO2021-117680 生体物質固定化材料 山口哲志,岡本晃充,上原廉二朗
WO2021-171600 小型超音波リニアモータ 森田剛,田上裕太郎
WO2021-172408 半導体装置及びその製造方法 長谷川達生,北原暁,井上悟,荒井俊人,井川光弘
WO2022-180914 真空装置及び真空処理体の製造方法 中村孝夫
WO2022-185877 ナノ粒子触媒とルイス酸とを含む触媒組成物、および水素化化合物の製造方法 小林修,宮村浩之
WO2023-085441 マクロポーラス構造体 竹内昌治,根岸みどり,小沢文智,澤山淳