（2024年8月現在）
| 特許／公開番号 | 発明の名称 | 発明者 |
|---|---|---|
| 特許第4892743号 | 微細流路を用いた微小液滴の製造装置 | 鳥居徹,西迫貴志 |
| 特許第5162752号 | セルロースエアロゲル及びその製造方法 | 空閑重則,Jie Cai蔡杰 |
| 特許第5510630号 | 2次元的にパターン化されたカーボンナノチューブの製造方法及び2次元的にパターン化されたカーボンナノチューブ | 丸山茂夫,項榮 |
| 特許第5830253号 | 液体ゲル化装置及び液体ゲル化方法 | 竹内昌治,尾上弘晃,瀧ノ上正浩,前田一輝,稲森貴一 |
| 特許第6021110号 | 感圧型センサ | 下山勲,松本潔,グェン ビンキェム,グェン ミンジューン,ファン ホアンフォン |
| 特許第6425466号 | 飛行装置 | 稲葉雅幸,岡田慧,趙漠居,川崎宏治 |
| 特許第6615499号 | 細胞またはリポソーム粒子の分離捕捉装置 | 竹内昌治,大崎寿久,手島哲彦,豊田太郎,風山祐輝 |
| 特許第6816878号 | 移動装置 | 福井類,佐野勝哉 |
| 特許第6887870号 | 旋回装置 | 福井類,佐野勝哉,満留慶介 |
| 特許第6903311号 | サスペンション装置 | 後藤健太郎 |
| 特許第6969774号 | 複合加工装置 | 国枝正典,韓偉 |
| 特許第7023500号 | レーザ加工システム | 小林洋平,谷峻太郎,青柳弓槻 |
| 特許第7088571号 | 単層カーボンナノチューブ及び該単層カーボンナノチューブに積層された層を有する構造体及びその製造方法 | 丸山茂夫,井ノ上泰輝,項栄 |
| 特許第7248271号 | 情報処理装置ロボットハンド制御システム及びロボットハンド制御プログラム | 舘暲,井上康之,加藤史洋 |
| 特許第7281064号 | 光照射装置イメージング装置及びレーザー加工装置 | 中野義昭,種村拓夫,福井太一郎,山下大之,田之村亮汰 |
| 特許第7289155号 | 妊婦又は妊娠可能性のある女性に対して投与するための医薬組成物 | Horacio Cabral,宮崎拓也,万静羽,水野和恵,永松健,鈴木研資,小田紘子 |
| 特許第7299597号 | レーザ加工におけるレーザ光強度への依存性の判定方法及びレーザ加工装置 | 小西邦昭,湯本潤司,櫻井治之,田丸博晴 |
| 特許第7329229号 | 温度応答性色材 | 石井和之,石田虎太郎 |
| 特許第7365718号 | 構造物の設計支援装置処理対象物の処理支援装置設計支援方法および設計支援プログラム | 山田崇恭 |
| 特許第7368857号 | ナノ構造複合半透膜 | 加藤隆史,Daniel Kuo,片山浩之,Liu Miaomiao |
| 特許第7450977号 | 小型超音波リニアモータ | 森田剛,田上裕太郎 |
| 特許第7456085号 | 環状化合物の分離または精製方法環状化合物の製造方法分離材および分離器具 | 細野暢彦,植村卓史 |
| 特許第7462953号 | 消臭用エアロゲル材料及びその製造方法 | 坂田一郎,古月文志,アダヴァンキリヤンキルビピン,植木貴之 |
| 特許第7473993号 | 熱硬化性樹脂の超薄膜 | 相田卓三,伊藤喜光,テンフェイフ―,シャンパンピエルーク,鈴木勉,長尾翌手可 |
| 特許第7503295号 | 速度軌道導出方法とそのプログラムおよび情報処理装置 | 藤本博志,服部充浩 |
| 特許第7536312号 | 画像インタフェース装置画像操作装置操作対象物操作装置操作対象物操作システム操作対象物提示方法および操作対象物提示プログラム | 檜山敦,稲見昌彦,佐々木智也,泉原厚史,荻野将拓,岡本直樹 |
| 特開2021-133491 | ガラス研磨加工装置 | 三村秀和,松澤雄介,郭建麗 |
| 特開2021-194633 | スメクチック液晶構造を有する複合半透膜 | 加藤隆史,片山浩之,濱口和馬,鳥居将太郎 |
| 特開2022-034365 | 多核金属化合物の製造方法 | 鈴木康介,米原宏司,山口和也,李赤峰,谷口健人 |
| 特開2022-034366 | 多核金属化合物 | 鈴木康介,米原宏司,山口和也,米里健太郎,谷口健人 |
| 特開2022-050363 | 量子ドット量子ドットの製造方法及び量子ドットの使用 | 中村栄一,Rui Shang,Chevalier Olivier |
| 特開2022-077819 | 光反応性液晶化合物及び液晶薄膜 | 加藤隆史,片山浩之,Monika GUPTA |
| 特開2022-115640 | 情報処理装置及びプログラム | 國吉康夫,大村吉幸,金希哲 |
| 特開2022-130321 | ホスト分子の包接能の変更方法包接体の製造方法包接体単結晶複合体及び標的分子捕捉用キット | 藤田誠,竹澤浩気 |
| 特開2023-004241 | 多分子膜多分子膜の製造方法及び積層体 | 中村栄一,関根良輔,内田光,Prince Ravat,原野幸治,亀井恒 |
| 特開2023-035596 | 揮発性有機化合物回収剤および揮発性有機化合物回収方法 | 石井和之,村田慧,横森慶,榎本恭子,中村誠司 |
| 特開2023-042207 | NO吸着材の製造方法NO吸着材ならびにこれを備える排ガス浄化装置 | 小倉賢 |
| 特開2023-046803 | ロボットシステム | 原田香奈子,ﾏﾙｹｽﾏﾘﾆｮﾑﾘﾛ |
| 特開2023-103982 | 高分子ゲル含有材料およびこれを備える電気化学デバイス | 周泓遥,山田鉄兵,松野稜平 |
| 特開2023-126189 | レーザ加工装置レーザ加工システム及びレーザ加工方法 | 高橋哲,鷲尾涼太,増田秀征,増井周造,門屋祥太郎,道畑正岐 |
| 特開2023-130917 | コア／シェル型不均一系触媒およびそれを用いた光学活性化合物の製造方法 | 小林修,呉本達哉 |
| 特開2023-134393 | 機械加工システム | 福井類,吉田健人,割澤伸一,鳥山遍 |
| 特開2023-138180 | アンモニア製造システムこれを備える排ガス処理システムおよびアンモニア製造方法 | 小倉賢 |
| 特開2023-162591 | アンモニア系成分含有液からアンモニア系成分を除去する方法アンモニア系成分含有液からアンモニア系成分を回収する方法アンモニア系成分発生材及びアンモニア系成分徐放材 | 脇原徹,伊與木健太,SIMANCAS COLOMA RAQU,竹村正守 |
| 特開2023-163721 | 流体デバイス電極作製方法及び電極付きマイクロ流体デバイス | 竹内昌治,森本雄矢,菅原啓亮 |
| 特開2023-166245 | 堅牢な分子認識素子センサ及びその製造方法 | 柳田剛,長島一樹,高橋綱己,細見拓郎,田中航 |
| 特開2023-171479 | レーザ加工システムに用いられる機械学習方法シミュレーション装置レーザ加工システム並びにプログラム | 小林洋平,谷峻太郎 |
| 特開2024-034429 | Pt／WOx－ZrO2系触媒によるエステルの加水素分解反応 | 野崎京子,金雄杰,袁康 |
| 特開2024-064621 | 積層造形システム及び積層造形方法 | 平山雄太,川原圭博,上條陽斗,伊藤慶太,吉清秦生 |
| 特開2024-069851 | 移動体の制御システム制御プログラム制御方法 | 中野公彦,熊崎亘平 |
| 特開2024-076224 | 加工方法 | 山内薫,本山央人,安齋哲央,三村秀和,岩崎純史 |
| WO2020-031948 | レーザ加工システムに用いられる機械学習方法シミュレーション装置レーザ加工システム並びにプログラム | 小林洋平,谷峻太郎 |
| WO2021-060303 | マイクロ粒子 | 伊藤大知,太田誠一,傅暁廷 |
| WO2021-172408 | 半導体装置及びその製造方法 | 長谷川達生,北原暁,井上悟,荒井俊人,井川光弘 |
| WO2022-180914 | 真空装置及び真空処理体の製造方法 | 中村孝夫 |
| WO2022-185877 | ナノ粒子触媒とルイス酸とを含む触媒組成物および水素化化合物の製造方法 | 小林修,宮村浩之 |
| WO2023-085441 | マクロポーラス構造体 | 竹内昌治,根岸みどり,小沢文智,澤山淳 |
| WO2023-153494 | 触媒ホルムアミド類及び／又はアミン類の製造方法ホルムアミド類及び／又はアルコール類の製造方法並びに錯体 | 野崎京子,岩崎孝紀,柘植一輝,内藤直樹 |
| WO2023-153498 | 成形用組成物の製造方法成形体の製造方法成形材料および成形体 | 酒井雄也,菊池裕太,田中理久 |
| WO2023-234261 | 印刷方法電子デバイスの製造方法および多孔質部材 | 井川光弘,長谷川達生 |
| WO2024-111622 | 加工方法 | 山内薫,本山央人,安齋哲央,三村秀和,岩崎純史 |